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J-GLOBAL ID：200903095225597355

マイクロ化学デバイスの洗浄方法とそれを用いた光学活性エポキシドの製造方法

Inventor：
酒井 亮

About 酒井 亮


Applicant, Patent owner：
日本化薬株式会社

About 日本化薬株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003388864
Publication number (International publication number)：2005144634
Application date： Nov. 19, 2003
Publication date： Jun. 09, 2005
Summary：
【課題】マイクロ化学デバイスをもちいて反応を行うにあたり流路壁面などマイクロ化学デバイスに吸着された試料を洗浄により速やかに除去し、迅速かつ高効率な反応や分析を実現し、さらには高価なマイクロデバイスを長期間使用可能にすることを課題とするものである。【解決手段】マイクロ化学デバイスに酸化剤を導入し吸着された試料を洗浄する。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
反応後のマイクロ化学デバイスに酸化剤水溶液を通液することを特徴とするマイクロ化学デバイスの洗浄方法。
IPC (2)：
B81C5/00 ,  B08B3/08
FI (2)：
B81C5/00 ,  B08B3/08 A
F-Term (5)：
3B201AA46 ,  3B201AB01 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 化学用マイクロデバイス及びその使用方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-331865   Applicant：伊永隆史, スターライト工業株式会社
  • 洗浄方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-309172   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 三菱瓦斯化学株式会社
  • オレフィンをエポキシ化する方法
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-580895   Applicant：メルクパテントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフトング
Cited by examiner (5)
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