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J-GLOBAL ID:200903095249608390
パターン形成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
米田 潤三 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998124036
Publication number (International publication number):1999300484
Application date: Apr. 17, 1998
Publication date: Nov. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】 プラズマディスプレイパネルの誘電体層や下地層を所望のパターンで高い精度で形成するためのパターン形成方法を提供する。【解決手段】 ガラスフリットを含む無機成分と、焼成除去可能な有機成分とを少なくとも含有するパターンベース層を基板上に形成し、該パターンベース層の所望部位にレーザー照射を行って除去することにより所望の形状にパターニングし、その後、焼成してパターンを形成する。
Claim (excerpt):
ガラスフリットを含む無機成分、焼成除去可能な有機成分を少なくとも含有するパターンベース層を基板上に形成し、該パターンベース層の所望部位にレーザー照射を行うことにより所望の形状にパターニングした後、焼成してパターンを形成することを特徴としたパターン形成方法。
IPC (3):
B23K 26/00
, H01J 9/02
, H01J 11/02
FI (3):
B23K 26/00 B
, H01J 9/02 F
, H01J 11/02 Z
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