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J-GLOBAL ID：200903095252198160

界面活性剤

Inventor： 中川 憲昭 ,  小谷 栄作
Applicant, Patent owner： 三洋化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996209003
Publication number (International publication number)：1998036885
Application date： Jul. 18, 1996
Publication date： Feb. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 洗浄力が優れ、流動点が低く、製造の工程数と時間が長くない、洗剤に配合したとき、硬水中でキレ-ト剤使用の必要のない界面活性剤の提供。【解決手段】 下記一般式(1)で表わされるアニオン界面活性剤。 R-[(OC2H4)n/(OC3H6)m]-(OC2H4)k-A (1){式中、Rは炭素数8〜18の脂肪族炭化水素基を示し、nは1〜11の数、mは1〜5の数、kは0〜10の数を示し、[(C2H4O)n/(C3H6O)m]はランダム付加を示す。Aは-OSO3X、-OCH2COOXまたはであり、Qは R-[(OC2H4)n/(OC3H6)m]-(OC2H4)k- またはXを示し、Rは炭素数8〜18の脂肪族炭化水素基を示し、nは1〜11の数、mは1〜5の数、kは0〜10の数を示し、[(C2H4O)n/(C3H6O)m]はランダム付加を示す。Xはカチオン基を示す。}

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表わされるアニオン界面活性剤。 R-[(OC2H4)n/(OC3H6)m]-(OC2H4)k-A (1){式中、Rは炭素数8〜18の脂肪族炭化水素基を示し、nは1〜11の数、mは1〜5の数、kは0〜10の数を示し、[(C2H4O)n/(C3H6O)m]はランダム付加を示す。Aは-OSO3X、-OCH2COOXまたはであり、Qは R-[(OC2H4)n/(OC3H6)m]-(OC2H4)k- またはXを示し、Rは炭素数8〜18の脂肪族炭化水素基を示し、nは1〜11の数、mは1〜5の数、kは0〜10の数を示し、[(C2H4O)n/(C3H6O)m]はランダム付加を示す。Xはカチオン基を示す。}

IPC (5)：

C11D 1/06 ,  B01F 17/42 ,  B01F 17/44 ,  C11D 1/29 ,  C11D 1/34

FI (5)：

C11D 1/06 ,  B01F 17/42 ,  B01F 17/44 ,  C11D 1/29 ,  C11D 1/34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-010377   Applicant：ライオン株式会社
• 特開昭61-014295
  
• 特開平2-219899
  
• 特開昭58-161303