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J-GLOBAL ID:200903095269498788

処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須山 佐一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997228174
Publication number (International publication number):1998125763
Application date: Aug. 25, 1997
Publication date: May. 15, 1998
Summary:
【要約】【課題】 カセットステーション内の洗浄空気のダウンフローを乱すことなく、蓋をもつカセットから基板を出し入れすることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 サブアーム機構21とカセット載置台20との間を仕切る仕切部材32の一部にカセットCRの開口部43と向き合うように通路33aを設け、この通路33aに対してカセット載置台20上のカセットCRの開口部43を接近させたり遠ざけたりするカセット移動機構82を配設した。一方、通路33aの下側にはカセット蓋44を保持した状態で上下方向に移動させる蓋外し機構47を配設し、カセット移動機構82と蓋外し機構47とを同期して作動させることにより蓋44の取り外し、取り付けを行い、取り外した蓋44は通路33aの下側に収納するようにした。
Claim (excerpt):
被処理体を出し入れするための開口部を持ち、この開口部に着脱可能に取りつけられた蓋を有するカセットが載置されるカセット載置台と、このカセット載置台のカセット内に収容された被処理体を処理するための処理部と、前記カセット載置台のカセットから被処理体を取り出し、前記処理部に被処理体を搬送し、処理後の被処理体を前記カセット載置台のカセットにもどす搬送手段と、この搬送手段と前記カセット載置台との間に設けられ、前記搬送手段の側の雰囲気を前記カセット載置台の側の雰囲気から仕切る仕切部材と、前記カセット載置台上のカセットの開口部と向き合うように前記仕切部材に形成され、前記搬送手段によって前記カセット載置台上のカセットから取り出された被処理体が通過し、かつ、前記カセット載置台上のカセットにもどされる被処理体が通過する通路と、この通路に対して前記カセット載置台上のカセットの開口部を接近させたり遠ざけたりするカセット移動機構と、前記カセットの開口部から蓋を取り外したり前記カセットの開口部に蓋を取り付けたりする蓋外し機構とを具備することを特徴とする処理装置。
IPC (4):
H01L 21/68 ,  B65G 1/00 535 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/027
FI (4):
H01L 21/68 A ,  B65G 1/00 535 ,  B65G 49/07 L ,  H01L 21/30 503 E
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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