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J-GLOBAL ID：200903095290757947

光学素子成形用型の製造方法

Inventor： 平林 敬二 ,  大森 正樹
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 山下 穣平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997239457
Publication number (International publication number)：1999079759
Application date： Sep. 04, 1997
Publication date： Mar. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】 光学素子成形用型の外周部の硬質炭素膜の劣化を防止し、耐久性の高い光学素子成形用型の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも成形面に硬質炭素膜を形成する光学素子成形用型の製造方法において、該成形面外周部近傍の硬質炭素膜の膜厚が該成形面中心部より厚くなるように硬質炭素膜を形成することによる光学素子成形用型の製造方法。

Claim (excerpt)：

少なくとも成形面に硬質炭素膜を形成する光学素子成形用型の製造方法において、該成形面外周部近傍の硬質炭素膜の膜厚が該成形面中心部より厚くなるように硬質炭素膜を形成することを特徴とする光学素子成形用型の製造方法。

IPC (4)：

C03B 11/00 ,  C03B 11/08 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/04

FI (4)：

C03B 11/00 N ,  C03B 11/08 ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 5/04 Z