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J-GLOBAL ID：200903095297877212

走査露光装置および物体の移動測定装置

Inventor： 太田 和哉
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991245054
Publication number (International publication number)：1993062871
Application date： Aug. 30, 1991
Publication date： Mar. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 互に逆方向に走査して露光する際、走査ステージの位置計測値を用いることなく走査中にほぼ間断なく、かつ走査方向や走査速度に影響を受けずに干渉縞方式のアライメントを可能にする。【構成】 露光装置に干渉縞アライメント法を適用する際、ビーム照射手段501から射出される2本のビーム(BL1,BL2)に一定の周波数差を与える周波数変調手段502と、マスク(R)の走査方向が第1方向の正方向であるか負方向であるかに応じて、ビーム照射手段501からの2本のビーム(BL1,BL2)の周波数差の極性を反転させるように切換える切換え手段507とを有し、第1交流信号、第2交流信号の周波数がマスク(R)の走査方向の正負によらず、常に2本のビーム(BL1,BL2)の周波数差以上になるように構成する。その結果、走査速度や走査方向に制限が加えられず、スループットが向上する。

Claim (excerpt)：

原画パターンが形成されたマスクを保持して、前記原画パターンの面に沿った第1方向に往復移動可能なマスクステージと、前記原画パターン、もしくはその一部を所定の倍率で投影する投影光学系と、この投影光学系の結像面に前記感光基板が位置するようにこの感光基板を保持して前記第1方向に往復移動可能な基板ステージとを備え、前記マスクステージと前記基板ステージとを、前記倍率に応じた速度比で同時に移動させることによって、前記原画パターンの投影像を前記感光基板上に走査露光する装置において、前記マスクには、前記第1方向に一定ピッチで配列された複数の格子要素から成るマスク格子が、前記原画パターンの走査露光の範囲に渡って設けられ、前記感光基板には、前記第1方向に沿って一定ピッチで配列された複数の格子要素から成る基板格子が、前記原画パターンの走査露光の範囲に渡って設けられ、前記第1方向に関して対称的に傾いた2本のコヒーレントなビームが前記マスク格子と前記基板格子のそれぞれを照射するように、それら2本のビームを前記マスクおよび前記投影光学系を介して前記感光基板に向けるビーム照射手段と、前記ビーム照射手段から射出される前記2本のビームに一定の周波数差を与える周波数変調手段と、前記2本のビームの照射によって前記マスク格子から同一方向に生じる2つの回折光によって形成された干渉光を光電検出し、前記周波数差と前記マスクの走査速度とに応じた周波数の第1の交流信号を出力する第1光電検出器と、前記2本のビームの照射によって前記基板格子から同一方向に生じる2つの回折光によって形成された干渉光を光電検出し、前記周波数差と前記基板の走査速度とに応じた周波数の第2の交流信号を出力する第2光電検出器と、前記第1交流信号と第2交流信号とを比較し、前記マスクと基板との相対走査中における位置ずれを検出する位置ずれ検出手段と、この位置ずれ検出手段で検出された位置ずれに応じて前記マスクステージと基板ステージを駆動制御する駆動手段と、前記マスクの走査方向が前記第1方向の正方向であるか負方向であるかに応じて、前記ビーム照射手段からの2本のビーム周波数差の極性を反転させるように切換える切換え手段とを有し、前記第1交流信号、第2交流信号の周波数が前記マスクの走査方向の正負によらず、常に前記2本のビームの周波数差以上になるように構成したことを特徴とする走査露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (2)：

H01L 21/30 321 ,  H01L 21/30 311 M