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J-GLOBAL ID：200903095307041894

プラズマ処理装置

Inventor： 渡辺 成一 ,  古瀬 宗雄 ,  白米 茂
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994046821
Publication number (International publication number)：1995263186
Application date： Mar. 17, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【構成】マイクロ波を利用したプラズマ処理装置において、導波管5内のマイクロ波が伝送される方向と垂直な断面全部あるいは該断面の一部に、比誘電率εrが1より大きい誘電体9を設けるよう構成した。【効果】誘電体内でのマイクロ波の波長は空気中のマイクロ波の波長の1/√εr倍となるので、マイクロ波の伝送部を小型化することが可能になった。

Claim (excerpt)：

マイクロ波を利用したプラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、導波管内のマイクロ波が伝送される方向と垂直な断面全部あるいは該断面の一部に、比導電率が1より大きい誘電体を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01P 7/06 ,  H01Q 13/10

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/31 C