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J-GLOBAL ID：200903095401396507
絶縁膜が形成されたナノ結晶軟磁性合金薄帯および磁心ならびにパルス発生装置、レーザ装置、加速器
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大場 充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993119548
Publication number (International publication number)：1994333717
Application date： May. 21, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：
【要約】【目的】 可飽和リアクトル、トランス、可飽和トランス、加速空胴、中性粒子ビーム入射装置のサージブロッカーなどのサージ吸収素子さらにはこれらの磁性部品を用いたシステムの高信頼性と高性能化を両立する。【構成】 セラミック絶縁膜がその表面に形成された粒径50nm以下の微細なナノ結晶粒が組織の少なくとも50%を占めるナノ結晶軟磁性合金薄帯において、 前記セラミックの絶縁膜が前記ナノ結晶軟磁性合金薄帯の幅方向の中央部よりも端部側に厚い膜厚で形成されており、この端部のセラミック絶縁膜の厚みdxと質量測定法による絶縁膜の平均厚みdaが1.2da≦dx≦5daの関係を有し、かつdx≦10μmであることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
セラミック絶縁膜がその表面に形成された粒径50nm以下の微細なナノ結晶粒が組織の少なくとも50%を占めるナノ結晶軟磁性合金薄帯において、前記セラミックの絶縁膜が前記ナノ結晶軟磁性合金薄帯の幅方向の中央部よりも端部側に厚い膜厚で形成されており、この端部のセラミック絶縁膜の厚みdxと質量測定法による絶縁膜の平均厚みdaが1.2da≦dx≦5daの関係を有し、かつdx≦10μmであることを特徴とするナノ結晶軟磁性合金薄帯。
IPC (3)：
H01F 1/16
, H01F 27/24
, H05H 9/00
