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J-GLOBAL ID：200903095437216947
高さ測定装置および測定方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993123642
Publication number (International publication number)：1994331328
Application date： May. 26, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：
【要約】【目的】 LSIの製造においてチップ上に形成された電極の表面形状を光学的に検査する高さ測定装置に関し、電極に付着したはんだ球の形状や量を正確に且つ速やかに検査できる高さ測定装置の提供を目的とする。【構成】 表面の反射率を検出する反射率検出光51および凹凸の高さを測定する高さ測定光52を出力するレーザ光源5と、反射率検出光51と高さ測定光52が一定の間隔で同一走査線13上を走査するよう構成された光走査機構3と、高さ測定に先立ち被測定物体1の表面で正反射された反射率検出光51の強度を検出する光強度検知器6と、表面で正反射された高さ測定光52の入射位置から被測定物体1の凹凸の高さを測定する位置検出素子41とを有し、被測定物体1の測定点における反射率に対応した光強度検知器6の出力信号に基づいて、光強度制御部7が一定時間後に測定点を照射する高さ測定光52の強度を制御するように構成する。
Claim (excerpt)：
凹凸を有する被計測物体の表面をレーザ光で走査し該被計測物体による正反射光を位置検出素子に入射せしめ、該正反射光の入射位置を示す該位置検出素子の出力信号によって該凹凸の高さを計測する測定装置において、表面の反射率を検出する反射率検出光(51)および凹凸の高さを測定する高さ測定光(52)を出力するレーザ光源(5) と、該反射率検出光(51)と該高さ測定光(52)が一定の間隔で同一走査線(13)上を走査するよう構成された光走査機構(3) と、高さ測定に先立ち被測定物体(1) の表面で正反射された該反射率検出光(51)の強度を検出する光強度検知器(6) と、表面で正反射された該高さ測定光(52)の入射位置から被測定物体(1) の凹凸の高さを測定する位置検出素子(41)とを有し、被測定物体(1) の測定点における反射率に対応した該光強度検知器(6) の出力信号に基づいて光強度制御部(7) が、一定時間後に該測定点を照射する高さ測定光(52)の強度を制御するよう構成されてなることを特徴とする高さ測定装置。
IPC (2)：
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