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J-GLOBAL ID：200903095474402939

気体分離装置及び気体分離方法

Inventor： 宮崎 元 ,  村岡 俊之 ,  中村 知一郎
Applicant, Patent owner： トキコ株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994195595
Publication number (International publication number)：1996057241
Application date： Aug. 19, 1994
Publication date： Mar. 05, 1996
Summary：

【要約】【目的】 本発明は最適な圧力で製品ガスを生成できるようにするとともに排気効率を高めるよう構成した気体分離装置及び気体分離方法を提供することを目的とする。【構成】 気体分離装置の制御回路32は、?@吸着・再生工程(空気供給用弁10及び排気用弁16を開弁させて第1の吸着槽1に圧縮空気を供給して最適圧力以上に昇圧させるとともに第2の吸着槽2の残留ガスを排気させる)、?A均圧工程(均圧用弁24,25を開弁させて第1の吸着槽1と第2の吸着槽2とを均圧化)、?B取出工程(取出用弁20を開弁させ第1の吸着槽1で生成された製品ガスを製品タンク22に取り出す)、?C均圧工程(均圧用弁24,25を開弁させて第1の吸着槽1と第2の吸着槽2とを均圧化)の順に各工程を実行する。

Claim (excerpt)：

吸着剤が充填された吸着槽に順次圧縮空気を供給して該吸着槽内を昇圧させ、該吸着槽内の吸着剤により生成された製品ガスを該吸着槽から順次取り出すよう構成された気体分離装置において、一の吸着槽に圧縮空気を供給して前記一の吸着槽内を最適圧力以上に昇圧させる(吸着工程)とともに他の吸着槽の残留ガスを排気させた(排気工程)後、前記一の吸着槽と減圧された前記他の吸着槽とを連通させて両吸着槽を均圧化し(均圧工程)、その後前記一の吸着槽で生成された製品ガスを前記製品タンクに取り出した(取出工程)後、前記一の吸着槽と減圧された前記他の吸着槽とを連通させて均圧化(均圧工程)する制御手段を備えてなることを特徴とする気体分離装置。