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J-GLOBAL ID：200903095476155912

画像評価方法及びこれを用いた画像形成装置

Inventor： 大橋 慎一
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 小泉 雅裕 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996057000
Publication number (International publication number)：1997233235
Application date： Feb. 21, 1996
Publication date： Sep. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 画像の細線部の再現性を簡単かつ正確に評価し、更に、画像形成装置に適用して常に目標とする細線再現が得られるようにする。【解決手段】 評価用画像パターンとして3ビットライン(on-off-on)またはそれ以上のオン-オフの繰り返しによるnビットライン画像Gを用い、画像支持体1上に形成された画像Gを画像幅mよりも十分に細かいピッチpの光ビームBmで画像幅m方向に沿って走査し、各走査点毎の光ビームBm状態を測定することにより各走査点毎の前記画像G表面位置を測定する画像表面測定工程Aと、この測定結果に基づいて前記画像Gの断面プロファイルを描出する断面プロファイル描出工程Bと、描出された画像Gの断面プロファイルから、最大高さ(Imax)、最小高さ(Imin)、M(Modulation)=(Imax-Imin)/(Imax+Imin)を算出する画像評価演算工程Cとを備える。

Claim (excerpt)：

粉体現像剤を使用して可視像化された画像を評価する画像評価方法において、評価用画像パターンとして3ビットライン(オン-オフ-オン(on-off-on))またはそれ以上のオン-オフの繰り返しによるnビットライン画像(G)を用い、画像支持体(1)上に形成された画像(G)を画像幅(m)よりも十分に細かいピッチ(p)の光ビーム(Bm)で画像幅(m)方向に沿って走査し、各走査点毎の光ビーム(Bm)状態を測定することにより各走査点毎の前記画像(G)表面位置を測定する画像表面測定工程(A)と、この画像表面測定工程(A)による測定結果に基づいて前記画像(G)の断面プロファイルを描出する断面プロファイル描出工程(B)と、この断面プロファイル描出工程(B)により描出された画像(G)の断面プロファイルから、最大高さ(Imax)、最小高さ(Imin)、M(Modulation)=(Imax-Imin)/(Imax+Imin)を算出する画像評価演算工程(C)とを備えたことを特徴とする画像評価方法。

IPC (3)：

H04N 1/00 ,  B41J 2/44 ,  G03G 15/00 303

FI (3)：

H04N 1/00 A ,  G03G 15/00 303 ,  B41J 3/00 M