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J-GLOBAL ID：200903095486311050

熱処理装置

Inventor： 大見 忠弘
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991334261
Publication number (International publication number)：1993141871
Application date： Nov. 22, 1991
Publication date： Jun. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】 炉心管内で基板の表面に、信頼性の高い酸化膜を形成するため活性ガスシンタリング等が可能な熱処理装置を提供することを目的とする。【構成】 被処理物5を搬出入するための開閉可能な開口部11とガスを内部に導入するためのガス導入口12とを有する炉心管1と、炉心管1内部を加熱するための炉心管加熱手段4、ガス導入口12に連通させて接続されたガス導入管2と、ガス導入管2を加熱するための加熱手段9とを少なくとも有し、ガス導入管2の少なくとも内表面がニッケル又はニッケルを含む材料よりなることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

被処理物を搬出入するための開閉可能な開口部とガスを内部に導入するためのガス導入口とを有する炉心管と;該炉心管内部を加熱するための炉心管加熱手段と;該炉心管の内部に配置された被処理物の位置よりも上流側において、水素ガス又は水素を含むガスから、プラズマを伴うことなく水素活性種を生成させるための水素活性種発生手段と;を少なくとも有することを特徴とする熱処理装置。

IPC (3)：

F27B 17/00 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324