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J-GLOBAL ID：200903095491991140

結像方法及び該方法を用いる露光装置及び該方法を用いるデバイス製造方法

Inventor： 吽野 靖行
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993212198
Publication number (International publication number)：1994188169
Application date： Aug. 04, 1993
Publication date： Jul. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 周期性のパターンを最適な偏光状態の光束を用いて高解像度で投影するようにした結像方法及び該方法を用いる露光装置を得ること。【構成】 照明系からの光束でレチクル面上の周期性のあるパターンを照明し、該パターンから生じる回折光を投影光学系の瞳に入射させて、該パターンの像をウエハ面上に投影する際、偏光装置により該パターンの周期が最短となる方向に対して略直交する方向に偏光面を有する直線偏光の光束を選択して投影していること。

Claim (excerpt)：

ライン状のパターンを該パターンの長手方向に偏光した偏光ビームで結像していることを特徴とする結像方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G02B 27/28 ,  G03F 7/20 521 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/31