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J-GLOBAL ID:200903095493841960
ハイドレートの製造方法および製造装置、天然ガスの貯蔵方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000219350
Publication number (International publication number):2002038171
Application date: Jul. 19, 2000
Publication date: Feb. 06, 2002
Summary:
【要約】【課題】添加カ ゙スを加えずにハイト ゙レートを製造する場合よりもより高速にハイト ゙レートを製造すること。【解決手段】内部の温度および圧力をハイト ゙レート生成条件下に設定する生成容器1と、生成容器1の内部に水を供給する水供給手段3と、生成容器1の内部に原料カ ゙スを供給する原料カ ゙ス供給手段2と、この添加カ ゙スを原料カ ゙スに添加した混合カ ゙スと水とによって引き起こされるハイト ゙レート生成反応の反応速度を、原料カ ゙スと水とによって引き起こされるハイト ゙レート生成反応の反応速度よりも、より高速にするような添加カ ゙スを、生成容器1の内部に供給する添加カ ゙ス供給手段4とを備え、生成容器1の内部において、水供給手段3によって供給された水、原料カ ゙ス供給手段2によって供給された原料カ ゙ス、および添加カ ゙ス供給手段4によって供給された添加カ ゙スを用いてハイト ゙レート生成反応を引き起こしハイト ゙レートを製造する。
Claim (excerpt):
水、およびこの水とハイドレート生成反応を引き起こす原料ガスを用いて一定圧力条件下で前記ハイドレート生成反応を引き起こしハイドレートを製造するハイドレートの製造方法において、前記原料ガスに添加する添加ガスであって、前記原料ガスに添加して前記ハイドレート生成反応を引き起こしハイドレートを製造することによって、前記原料ガスと前記水とから製造されるハイドレートの状態を維持することが可能な温度よりも、より高温でその状態を維持することが可能なハイドレートを製造可能とする添加ガスを、前記原料ガスに添加して前記ハイドレート生成反応を引き起こしハイドレートを製造するようにしたことを特徴とするハイドレートの製造方法。
IPC (3):
C10L 3/06
, B01J 19/00
, B01D 7/02
FI (3):
B01J 19/00 A
, B01D 7/02
, C10L 3/00 A
F-Term (24):
4D076AA15
, 4D076BD07
, 4D076EA14Y
, 4D076EA20Y
, 4D076FA24
, 4D076GA10
, 4D076HA03
, 4D076HA20
, 4D076JA01
, 4D076JA02
, 4D076JA03
, 4D076JA05
, 4G075AA03
, 4G075AA15
, 4G075AA44
, 4G075AA45
, 4G075AA63
, 4G075BB10
, 4G075BD12
, 4G075BD13
, 4G075BD17
, 4G075CA03
, 4G075CA05
, 4G075CA57
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