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J-GLOBAL ID：200903095507674107

アルカリ可溶性不飽和樹脂及びこれを用いる感放射線性樹脂組成物

Inventor： 藤井 悟 ,  柳原 欣尚 ,  細見 哲也 ,  北野 慶
Applicant, Patent owner： ナガセケムテックス株式会社
Agent (1)： 南條 博道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002041864
Publication number (International publication number)：2003089716
Application date： Feb. 19, 2002
Publication date： Mar. 28, 2003
Summary：

【要約】【課題】 感度、現像性に優れ、残膜率に優れるとともに、耐熱性、耐薬品性、基板との密着性、可視光領域における透明性に優れたポジ型レジスト膜を形成しうるようなアルカリ可溶性不飽和樹脂およびこの樹脂を含有する感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 下記一般式(1)で表される(A)アルカリ可溶性不飽和樹脂と、(B)キノンジアジド化合物を含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物:【化1】(ただし、Xはエポキシ(メタ)アクリレート誘導体を示し、a、bは0から20までの整数を示し、n=0の樹脂を主成分とし、1≦n≦20の樹脂を含有し、VはYまたはZであり、Yは酸無水物の残基を示し、Zは酸二無水物の残基を示し、Wは多官能性エポキシ樹脂に由来する基を示す)。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で表される樹脂:【化1】(式中、Xは下記一般式(2):【化2】で表される基(式中、R1は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、Aは一般式(3):【化3】(式中、R2は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、フェニル基またはハロゲン基を表す);一般式(4):【化4】(式中、R3は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子、炭素数1〜5のアルキル基、フェニル基またはハロゲン基を表し、Bは-CO-、-SO2-、-C(CF3)2-、-Si(CH3)2-、-CH2-、-C(CH3)2-、-O-または不存在を示す。)か、あるいは一般式(5):【化5】で表される基(式中、R4は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、または炭素数1〜5のアルキル基である)を示す。)で表される基であり、a、b、およびnは、それぞれ、0〜20の整数を示し、aとnは同時に0となることはなく、VはYまたはZを示し、Yはカルボン酸無水物の酸無水物基を除いた残基を示し、Zはカルボン酸二無水物の酸無水物基を除いた残基を示し、Wは多官能性エポキシ化合物に由来する基を示す。)を含む、アルカリ可溶性不飽和樹脂。

IPC (5)：

C08G 59/17 ,  C08F290/14 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/027 515

FI (5)：

C08G 59/17 ,  C08F290/14 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/027 515

F-Term (33)：

2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AA14 ,  2H025AB08 ,  2H025AB13 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC74 ,  2H025BC85 ,  2H025BC86 ,  2H025BE01 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  4J027AE02 ,  4J027AE03 ,  4J027BA08 ,  4J027BA20 ,  4J027BA25 ,  4J027BA26 ,  4J027BA28 ,  4J027CC03 ,  4J027CD10 ,  4J036AD08 ,  4J036AD11 ,  4J036AF15 ,  4J036CA19 ,  4J036CA21 ,  4J036JA09