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J-GLOBAL ID：200903095507982790

薄膜製造装置

Inventor： 山田 紳月
Applicant, Patent owner： 三菱樹脂株式会社 ,  田中貴金属工業株式会社 ,  三菱化学株式会社
Agent (1)： 谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995244920
Publication number (International publication number)：1997087841
Application date： Sep. 22, 1995
Publication date： Mar. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 薄膜製造装置の基材ホルダーあるいはマスキング部材など基材に付着した金のような貴金属、効率良く回収できるようにする。【解決手段】 基材上に薄膜を形成する薄膜製造装置である。この薄膜製造装置は基材の一部を覆う銅製部材の表面粗さがRa :20μm以下であり、かつ、銅製部材の表面は白金層で覆われている。

Claim (excerpt)：

基材上に薄膜を形成する薄膜製造装置において、前記基材の一部を覆う銅製部材の表面粗さがRa :20μm以下であり、かつ、前記銅製部材の表面は白金層で覆われていることを特徴とする薄膜製造装置。

IPC (4)：

C23C 14/50 ,  G11B 7/26 531 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/26

FI (4)：

C23C 14/50 F ,  G11B 7/26 531 ,  G02B 5/26 ,  G02B 1/10 Z