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J-GLOBAL ID：200903095511216717

光変調素子及びその製造方法

Inventor： 中易 裕一 ,  進藤 忠文 ,  安藤 雅之
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 吉田 勝広 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992214737
Publication number (International publication number)：1994034954
Application date： Jul. 21, 1992
Publication date： Feb. 10, 1994
Summary：

【要約】【目的】 パタ-ンコーティングを容易に行うことが出来、又、電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画された複数の区画室内のみにコーテイングを容易に行うことが出来、その結果優れた特性を有する光変調素子及びその製造方法を提供すること。【構成】 液晶粒子が高分子マトリックス中に分散してなる液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子において、該複合膜が、液晶粒子と、重合度が300〜1,200且つ鹸化度が50%〜85%のポリビニルアルコール(PVA)と、シリカ超微粒子とからなり、PVA/液晶の混合比(重量比)が5/95〜50/50である液晶/高分子複合膜を用いることを特徴とする光変調素子、及びその製造方法。

Claim (excerpt)：

液晶粒子が高分子マトリックス中に分散してなる液晶/高分子複合膜を用いた光変調素子において、該複合膜が、液晶粒子と、重合度が300〜1,200且つ鹸化度が50%〜85%のポリビニルアルコール(PVA)と、シリカ超微粒子とからなり、PVA/液晶の混合比(重量比)が5/95〜50/50である液晶/高分子複合膜を用いることを特徴とする光変調素子。

IPC (2)：

G02F 1/1333 ,  G02F 1/13 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-029218
  
• 特開平2-205821
  
• 特開平3-063629