パターン認識方法および装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：関正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000101966
Publication number (International publication number)：2001291105
Application date： Apr. 04, 2000
Publication date： Oct. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】パターンの位置と姿勢を素早く算出できて、照明や対象物表面の反射状態が変化しても影響を受けにくい新しいパターン認識方法を提供する。【解決手段】テンプレートの複数の輪郭点を検出し、輪郭点と予め決めた基準点を結ぶ直線の長さrとその直線と輪郭点における法線ベクトルとの角度θを属性とするシフトベクトルVを作成して記憶しておき(S1)、画像中の対象物パターンの輪郭点を検出し(S2,S3)、対象物パターンの輪郭点におけるパターン法線ベクトルを算出し(S4)、パターン法線ベクトルに対して属性角度θの方向にシフトベクトルの長さrだけずらせた写像点の座標を算出するシフトベクトル変換を行い(S5)、算出された写像点座標に対応する座標対応メモリーにパターン法線ベクトルとテンプレート法線ベクトルの角度差データを蓄積して(S6)、シフトベクトル変換後にデータの数が集中している番地を検出してそのメモリー番地に対応する座標に基づいて対象物の位置を求め(S8)、その番地に格納されている角度差データの度数分布から対象物の姿勢を求める(S9)。

Claim (excerpt)：

テンプレートの画像から物体表面における複数の点における法線ベクトルを検出し該表面点と予め決めた基準点を結ぶ線分の長さrと該線分と前記法線ベクトルの角度θを属性とするシフトベクトルVを作成して予め記憶しておき、対象物の画像を取得し、画像中の対象物パターンの表面点におけるパターン法線ベクトルを算出し、該パターン法線ベクトルと前記属性角度θを有する方向に前記線分長さrだけずれた写像点の座標を算出するシフトベクトル変換を行い、該写像点座標に対応する座標対応メモリーにデータを蓄積して、シフトベクトル変換後にデータの数が集中しているメモリーに対応する座標に基づいて対象物の位置を求めることを特徴とするパターン認識方法。

IPC (5)：

G06T 7/60 150 , G06T 7/60 , G06T 1/00 315 , G06T 7/00 300 , G06T 7/00

FI (5)：

G06T 7/60 150 B , G06T 7/60 150 P , G06T 1/00 315 , G06T 7/00 300 D , G06T 7/00 300 E

F-Term (11)：

5B057DA07 , 5B057DC08 , 5B057DC16 , 5B057DC30 , 5B057DC33 , 5B057DC36 , 5L096FA06 , 5L096FA14 , 5L096FA67 , 5L096FA69 , 5L096JA09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

特開平2-158888

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