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J-GLOBAL ID：200903095556318855

高感度の高解像度i線ホトレジスト用のアルキルスルホニルオキシム類

Inventor： ディートリカー,クルト ,  クンツ,マルティン ,  山戸 斉 ,  デ レオ,クリストフ
Applicant, Patent owner： チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド
Agent (1)： 津国 肇 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998511058
Publication number (International publication number)：2000517067
Application date： Aug. 22, 1997
Publication date： Dec. 19, 2000
Summary：

【要約】本発明は、式(1):(式中、Rは、ナフチル、(2)または(3)であり;R0は、R1-X基またはR2であり;Xは、直接結合、酸素原子または硫黄原子であり;R1は、水素、C1〜C4アルキルまたは、非置換であるか、クロロ、ブロモ、C1〜C4アルキルおよびC1〜C4アルキルオキシからなる群より選ばれる置換基によって置換されているフェニル基であり;R2は、水素またはC1〜C4アルキルであり;そしてR3は、非置換であるか、1個以上のハロゲン原子によって置換されている直鎖状または分岐状のC1〜C12アルキルである)のオキシムアルキルスルホナート化合物の、アルカリ性媒体中で現像可能であり、340〜390nmの波長の放射線に感受性である化学的に増幅されたホトレジスト、ならびに相応する組成の、前記波長範囲のためのポジ型およびネガ型ホトレジストにおける、感光性酸発生剤としての使用を記載する。

Claim (excerpt)：

a)酸の作用によって架橋させることができる、少なくとも1種の化合物および/または b)酸の作用の下でその可溶性を変化させる、少なくとも1種の化合物、ならびに c)光開始剤としての、少なくとも1種の式1:(式中、Rは、ナフチル、であり; R0は、R1-X基またはR2であり; Xは、直接結合または酸素原子であり; R1は、水素、非置換であるか、フェニル、OHまたはC1〜C4アルコキシによって置換されているか、-O-原子によって中断されていてもよいC1〜C4アルキルであるか、あるいは、R1は、非置換であるか、クロロ、ブロモ、C1〜C4アルキルおよびC1〜C4アルキルオキシからなる群より選ばれる置換基によって置換されているフェニル基であり; R2は、水素またはC1〜C4アルキルであり;そして R3は、非置換であるか、1個以上のハロゲン原子によって置換されている直鎖状または分岐状のC1〜C12アルキルであるか、フェニル-C1〜C2アルキルまたはカンフェリルである)の化合物を含むことを特徴とする、光によって活性化することができる組成物。

IPC (7)：

G03F 7/004 503 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03H 1/02 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/004 503 A ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03H 1/02 ,  H01L 21/30 502 R