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J-GLOBAL ID：200903095564265264

露光装置、レーザ光源、露光方法、及びデバイス製造方法

Inventor： 内田 高明
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005331987
Publication number (International publication number)：2007142052
Application date： Nov. 16, 2005
Publication date： Jun. 07, 2007
Summary：

【課題】レーザ光のスペクトル特性として、スペクトル幅の上限値以外の特性を用いて、露光されるパターンの線幅等の特性を制御する。【解決手段】レーザビームLBでレチクルR及び投影光学系PLを介してウエハWを露光する露光装置において、レーザビームLBのスペクトルの強度分布の積分値に基づいて定まる第1のスペクトル幅(95%エネルギ純度幅E95%)と、レーザビームLBのスペクトルのピーク値に対して強度が所定割合まで低下するときの幅である第2のスペクトル幅(半値全幅FWHM)との比の値を用いて、ウエハW上への露光パターンの特性を制御する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザ光をパターンに照射し、前記レーザ光で前記パターンを介して物体を露光する露光装置において、 前記レーザ光のスペクトルの強度分布の積分値に基づいて定まる第1のスペクトル幅と、前記レーザ光のスペクトルのピーク値に対して強度が所定割合まで低下するときの幅である第2のスペクトル幅との比の値を用いて、前記パターンの前記物体上への露光パターンの特性を制御することを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01S 3/137

FI (4)：

H01L21/30 515B ,  G03F7/20 505 ,  G03F7/20 521 ,  H01S3/137

F-Term (21)：

2H097AB09 ,  2H097BB01 ,  2H097BB02 ,  2H097BB10 ,  2H097CA17 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CA10 ,  5F046CB07 ,  5F046CB10 ,  5F046CB12 ,  5F046CB22 ,  5F046DA01 ,  5F172AD06 ,  5F172NN24 ,  5F172NP03 ,  5F172NQ13 ,  5F172ZZ02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 米国特許出願公開第2001/0026448A1号