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J-GLOBAL ID:200903095578314314

散乱式粒度分布測定方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤本 英夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996021725
Publication number (International publication number):1997196841
Application date: Jan. 13, 1996
Publication date: Jul. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】 試料が高濃度である場合、これを希釈しなくても粒度分布を正確に測定することができる散乱式粒度分布測定方法を提供すること。【解決手段】 光源1からの光2を試料5を収容したセル4に対して照射し、そのときの散乱光10を集光レンズ6を介して光検出器7に入射させ、そのとき得られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒度分布を測定する散乱式粒度分布測定方法において、前記セル4内に無色透明のスペーサ12を設けることにより、セル4内の試料5の光学的長さcを調整するようにした。
Claim (excerpt):
光源からの光を試料を収容したセルに対して照射し、そのときの散乱光を集光レンズを介して光検出器に入射させ、そのとき得られる散乱光強度パターンに基づいて試料中の粒度分布を測定する散乱式粒度分布測定方法において、前記セル内に無色透明のスペーサを設けることにより、セル内の試料の光学的長さを調整することを特徴とする散乱式粒度分布測定方法。
IPC (3):
G01N 15/02 ,  G01N 21/03 ,  G01N 21/47
FI (3):
G01N 15/02 A ,  G01N 21/03 Z ,  G01N 21/47 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平2-179444
  • 特開平2-203245

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