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J-GLOBAL ID：200903095594828298

多段冷却型ガス反応装置

Inventor： 殿河内 誠 ,  松浦 真司 ,  金澤 明洋
Applicant, Patent owner： 宇部興産株式会社
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992330353
Publication number (International publication number)：1994172760
Application date： Dec. 10, 1992
Publication date： Jun. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 小型で高性能の多段冷却型ガス反応装置を提供する。【構成】 反応塔10の上部に設けられた導入口12から未反応ガスとしての改質ガス(COとH2 Oとの混合ガス)が導入され、第1触媒充填層14、第1冷却器16、第2触媒充填層18、第2冷却器20、第3触媒充填層22、第3冷却器24、第4触媒充填層26の順に流通される。各触媒充填層14,18,22,26を通過することにより、COとH2 Oとが反応してCO2 とH2 とが生成する。この生成反応は発熱反応であるが、冷却器16,20,24によってガス温度が降温される。【効果】 コンパクト化及び反応塔の軽量化を図ることができる。また、反応塔を分割可能とすることにより、触媒の交換もきわめて容易かつ迅速に行なえるようになる。

Claim (excerpt)：

上部及び下部の一方に未反応ガスの導入口を有し他方に反応の完了したガスの出口を有した反応塔と、該反応塔内に多段に設けられた触媒充填層と、各触媒充填層の間に設けられたガス冷却器と、を備えてなる多段冷却型ガス反応装置。