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J-GLOBAL ID：200903095601728466

結像特性測定装置及び該装置を備えた露光装置

Inventor： 水谷 英夫
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996207102
Publication number (International publication number)：1998050581
Application date： Aug. 06, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】 レチクルやウエハ等の露光工程中に交換される基板を用いることなく、投影光学系の結像特性の測定を直接、且つ常時行うと共に、結像光束の実質的な開口数が変化した場合でも、正確に結像特性を測定する。【解決手段】 投影光学系PLとウエハWとの間に基準マーク14Aが形成された基準体12を配置し、ヘテロダインビーム生成光学系17から発生する周波数の異なる回折光L1,L-1を、振動ミラー19及び投影光学系PL等を介して基準体12上の基準マーク14Aに照射する。基準マーク14Aから発生する回折光よりなる干渉光LC を投影光学系PL等を介して光電センサ25で受光して、基準マーク14Aの位置ずれ量を求める。振動ミラー19を用いて回折光L1,L-1を角度走査した際の基準マーク14Aの位置ずれ量より結像特性の変化量を求める。

Claim (excerpt)：

マスクに形成された原画パターンの像を感光性の基板上に投影する投影光学系の結像特性測定装置において、前記投影光学系と前記基板との間に配置され基板側基準マークが形成された基板側基準体と、前記マスクとは独立した位置にある所定の基準面上に配置された計測用基準体と、該計測用基準体からの光束を前記投影光学系の有効径内で角度走査する角度走査手段と、前記投影光学系の結像特性を測定するために、前記計測用基準体を通過して前記角度走査手段によって角度走査された検出光を用いて前記投影光学系を介して前記基板側基準マークを検出する計測用光学系と、を有することを特徴とする結像特性測定装置。

FI (3)：

H01L 21/30 525 H ,  H01L 21/30 525 C ,  H01L 21/30 526 B