Pat
J-GLOBAL ID:200903095612927380
低分子量成分の少ないスチレン系樹脂の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鳴井 義夫 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000139657
Publication number (International publication number):2001323018
Application date: May. 12, 2000
Publication date: Nov. 20, 2001
Summary:
【要約】【課題】 熱安定性や印刷性の顕著に改善されたスチレン系樹脂材料の製造法を提供する。【解決手段】 下記の組成で、スチレン単独又はスチレンを主成分とするモノマーを有機リチウム開始剤を用い、脂環式炭化水素溶媒中、重合温度0〜130°Cの範囲で溶液重合し、次いで揮発成分を揮発除去することによる、樹脂中に含まれるモノマー、ダイマーおよびトリマーの合計量が1000ppm未満である低分子量成分の少ないスチレン系樹脂の製造法。(a)モノマー 100g(b)炭素数5〜8の範囲の脂環式炭化水素溶媒 10〜1000g(c)有機リチウム化合物 0.05〜20ミリモル
Claim (excerpt):
下記の組成で、スチレン単独又はスチレンを主成分とするモノマーを有機リチウム開始剤を用い、脂環式炭化水素溶媒中、重合温度0〜130°Cの範囲で溶液重合し、次いで揮発成分を揮発除去することによる、樹脂中に含まれるモノマー、ダイマーおよびトリマーの合計量が1000ppm未満である低分子量成分の少ないスチレン系樹脂の製造方法。(a)モノマー 100g(b)炭素数5〜8の範囲の脂環式炭化水素溶媒 10〜1000g(c)有機リチウム化合物 0.05〜20ミリモル
IPC (5):
C08F 6/10
, C08F 2/01
, C08F 2/06
, C08F 4/48
, C08F 12/08
FI (5):
C08F 6/10
, C08F 2/01
, C08F 2/06
, C08F 4/48
, C08F 12/08
F-Term (15):
4J011DB12
, 4J011DB17
, 4J011DB18
, 4J011DB23
, 4J011DB28
, 4J011HA03
, 4J011HB03
, 4J011HB19
, 4J011HB22
, 4J015DA02
, 4J100AB02P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100GB01
, 4J100GB07
Return to Previous Page