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J-GLOBAL ID：200903095625840542

希土類元素添加ガラス導波路およびその製造方法

Inventor： 中沢 正隆 ,  井本 克之
Applicant, Patent owner： 日立電線株式会社 ,  日本電信電話株式会社
Agent (1)： 絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992025378
Publication number (International publication number)：1993226733
Application date： Feb. 12, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は希土類元素添加ガラス導波路およびその製造方法に関するものであり、その主な目的は膜厚および屈折率が制御され、希土類元素が均一に添加され、かつ、その希土類元素も多量に添加された高利得性の得られる希土類元素添加ガラス導波路およびその製造方法を提供することにある。【構成】 本発明は基板の表面上に、希土類元素を少なくとも1種含むSiO2 とTa2 O5 からなるコアガラスを形成し、該コアガラスをクラッドガラス等の低屈折率層で覆ったことを特徴としている。

Claim (excerpt)：

基板の表面上に、希土類元素を少なくとも1種含むSiO2 とTa2 O5 からなるコアガラスを形成し、該コアガラスをクラッドガラス等の低屈折率層で覆ったことを特徴とする希土類元素添加ガラス導波路。

IPC (4)：

H01S 3/07 ,  G02B 6/12 ,  G02F 1/35 501 ,  H01S 3/17