Pat

J-GLOBAL ID：200903095629637822

露光条件検定パターンおよび露光原版ならびにそれらを用いた露光方法

Inventor： 小森谷 進 ,  国吉 伸治 ,  関口 耕平 ,  町田 貴裕 ,  前島 央 ,  小林 正道 ,  加藤 毅
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993083716
Publication number (International publication number)：1994302492
Application date： Apr. 12, 1993
Publication date： Oct. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 被露光物に転写される製品パターンの精度を定量的に管理して安定に維持することが可能な露光条件検定パターンおよび露光原版ならびにそれらを用いた露光方法を提供する。【構成】 クロム遮光膜からなる一対の三角形状パターン11aおよび三角形状パターン11bの角部の頂点11cおよび頂点11dを所定の間隔Aをおいて対向して配置した構成の遮光性パターン11と、クロム遮光膜から三角形状パターン12aおよび三角形状パターン12bを抜いて透光性とし、両者の頂点12cおよび頂点12dが所定の間隔Bで対向するように配置した構成の透光性パターン12とからなる露光条件検定パターン10である。間隔AとBの測定値の和A+Bは、露光量に依存せずデフォーカス量を反映し、差B-Aは、デフォーカス量に依存せず、露光量を反映するので、露光条件の変動要因を弁別し、定量検定できる。

Claim (excerpt)：

露光原版上の露光領域内に形成され、所望の頂角を有する遮光性の第1の角部を対向させてなる第1のパターンと、所望の頂角を有する透光性の第2の角部を対向させてなる第2のパターンとからなることを特徴とする露光条件検定パターン。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521