カラーフィルター

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：重野剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995183899
Publication number (International publication number)：1997033716
Application date： Jul. 20, 1995
Publication date： Feb. 07, 1997
Summary：

【要約】【課題】レジスト法により、無公害で実用上十分な遮光性、耐熱性、耐薬品性、耐湿性及び接着性を有するブラックマトリックスが形成されたカラーフィルターを得る。【解決手段】ブラックマトリックス形成用顔料分散レジスト中の有機高分子物質と同一成分を含有する有機高分子物質を配合した顔料分散レジストで赤,緑及び青の画素画像を形成する。【効果】ブラックレジストと、カラーレジストとで、同一の有機高分子物質を配合することにより、ブラックレジスト中の顔料の配合量を多くして、遮光性を高めた場合でも、赤,緑及び青の画素画像との接着性を向上させることができる。

Claim (excerpt)：

有機高分子物質を含有する黒色顔料分散レジストを用いて形成されたブラックマトリックス上に、赤,緑及び青の画素画像を、各々、有機高分子物質を含有する色材料分散レジストを用いて形成してなるカラーフィルターであって、該色材料分散レジスト中の有機高分子物質が前記黒色顔料分散レジスト中の有機高分子物質と同一成分を含有することを特徴とするカラーフィルター。

IPC (2)：

G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505

FI (2)：

G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

遮光性画素、及びそれを用いた光学フィルター
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-178183 Applicant：富士写真フイルム株式会社
遮光パターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-064869 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開昭64-080905

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Cited by examiner (7)

遮光性画素、及びそれを用いた光学フィルター
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-178183 Applicant：富士写真フイルム株式会社
遮光パターンの形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-064869 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開昭64-080905

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