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J-GLOBAL ID：200903095737154170

スパッタリング用ITOターゲット

Inventor： 田中 裕之 ,  名手 達夫 ,  遠藤 忍 ,  古山 晃一
Applicant, Patent owner： 住友金属鉱山株式会社 ,  株式会社豊島製作所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993219203
Publication number (International publication number)：1995054133
Application date： Aug. 12, 1993
Publication date： Feb. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 表面における黒化の発生を抑制することが可能なスパッタリング用ITOターゲットを提供する。【構成】 酸化インジウムと酸化錫を主成分とした焼結体であって、0.1〜3重量%(CeO2 換算)の酸化セリウムを含有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

酸化インジウムと酸化錫を主成分とした焼結体であって、0.1〜3重量%(CeO2 換算)の酸化セリウムを含有することを特徴とするスパッタリング用ITOターゲット。