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J-GLOBAL ID:200903095751302734

パターン認識方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高田 守
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993114807
Publication number (International publication number):1994325181
Application date: May. 17, 1993
Publication date: Nov. 25, 1994
Summary:
【要約】【目的】 パターンのズレや照明光の変動に影響されずにパターンの類似度を認識できると共に、パターンの類似度の検出感度を可変にできるパターン認識方法を得る。さらに、直接比較できない数値で表現された対象に対してもパターンの類似度を求めることができるパターン認識方法を得る。【構成】 基準位置にある基本パターンベクトルとそれを移動して得られる複数のパターンベクトルで張られる線形部分空間に、テストパターンベクトルを射影することで、類似度の計算する。また、正規化フィルタを用いた後の画像をパターンベクトルとする。また、パターンベクトルの次元を調整することで、認識検出の感度を可変する。また、直接比較できない数値で表現された対象に対しては、そのデータを画像に変換してパターンベクトルとする。
Claim (excerpt):
基本パターンベクトルとそれを移動して得られる複数のパターンベクトルで張られる線形部分空間へテストパターンベクトルを射影し、その結果得られた線形部分空間の補空間に含まれるベクトルのノルムを用いて、上記基本パターンベクトルと上記テストパターンベクトルの類似度を測ることを特徴とするパターン認識方法。
IPC (4):
G06F 15/70 460 ,  G01N 21/88 ,  G06F 15/62 405 ,  H01L 21/66
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開昭60-057475
  • 特開平2-227787

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