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J-GLOBAL ID:200903095792337461
炭化水素基質の接触部分酸化方法および装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
江崎 光史 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997310858
Publication number (International publication number):1998245201
Application date: Nov. 12, 1997
Publication date: Sep. 14, 1998
Summary:
【要約】【課題】 化学量論量の酸素を用いて炭化水素供給ガスを接触部分酸化することによって水素/一酸化炭素含有合成ガスを製造する方法を提供する。【解決手段】 工程が複数の連続した別々の段階からなっており、それぞれの段階において、化学量論量の酸素の少量の画分を炭化水素供給ガスに添加し、そして次いで供給ガスを触媒帯域に流し、そして少量の供給ガスとの反応によって添加された量の酸素をそれぞれの段階において実質的に完全に変換する。
Claim (excerpt):
化学量論量の酸素を用いて炭化水素供給ガスを接触部分酸化することによって水素/一酸化炭素含有合成ガスを製造する方法において、工程が複数の連続した別々の段階からなっており、それぞれの段階において、化学量論量の酸素の少量の画分を炭化水素供給ガスに添加し、そして次いで供給ガスを触媒帯域に流し、そして少量の供給ガスとの反応によって添加された量の酸素をそれぞれの段階において実質的に完全に変換することを特徴とする上記方法。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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特開昭49-044002
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特公昭45-026602
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