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J-GLOBAL ID：200903095792990785

全反射型蛍光X線分析方法及び分析装置

Inventor： 中野 朝雄 ,  尾形 潔 ,  竹原 裕子
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991023479
Publication number (International publication number)：1994118034
Application date： Feb. 18, 1991
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】従来と同等の出力のX線源を用いても、X線分光光学系を改良することにより試料に照射されるX線の強度を実質的に増大し、検出感度の高い全反射型蛍光X線分析方法及び装置を実現する。【構成】試料に照射するX線ビ-ムを複数個準備すると共に、これら各々のX線ビ-ムをX線モノクロメ-タ-を用いて単色化し、これらを試料上で交差させて照射する。具体的なX線照射増大法としては、X線源2で発生したX線を複数の取り出し口から透過窓4を通して複数個取り出し、これらX線ビ-ムをスリット5を通して、湾曲型分光結晶6に入射させる。この分光結晶6の凹面部で回折されたX線ビ-ム3は、波長λのみからなるX線ビ-ム7となり、スリット8を通して収束点9に向かう。収束点9を通過した後、X線ビ-ム7と同様な経路を通過してきたもう一方のX線ビ-ム10と交差し、この交差部分のX線強度を実質的に増大する。

Claim (excerpt)：

試料表面でX線を全反射させ、蛍光X線検出器に入射する散乱X線量を減少させることにより、試料表面の微量物質を分析する全反射型蛍光X線分析方法において、前記試料に照射するX線ビ-ムを複数個準備すると共に、前記各X線ビ-ムをX線モノクロメ-タ-を用いてそれぞれ単色化し、前記試料上で交差させて照射する段階を有して成る全反射型蛍光X線分析方法。