Pat
J-GLOBAL ID：200903095802410316
周期性パターンの検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992308208
Publication number (International publication number)：1994129992
Application date： Oct. 21, 1992
Publication date： May. 13, 1994
Summary：
【要約】【目的】 周期性パターンにおける欠陥を誤りなく検査する。【構成】 周期性パターンを有する検査対象物の多値画像Paとその遅延多値画像Pbとの差分画像を得て、更にその絶対値を2値化することにより、検査対象物に存在する欠陥候補とすべき2値画像Pcを抽出する。この2値画像Pcには欠陥候補の画像の他に、多値画像における明暗が変化する変化点に相当する無用な画像が混在している。多値画像Paをもとに得られるマスク画像Pmは、変化点を表現しており、マスク画像Pmの反転画像と2値画像Pcの論理積を演算することにより、2値画像Pcから無用な画像が除去され、欠陥候補に相当する被マスク画像Pdのみが取り出される。この被マスク画像Pdに基づいて、欠陥位置特定・欠陥種別ブロック40と欠陥検出ブロック60により、欠陥候補の中から欠陥の選別を行うことにより、欠陥の検出が行われる。【効果】 周期性パターンにおける欠陥を誤りなく検査する。
Claim (excerpt)：
一定の周期でパターンが反復する検査対象物における欠陥を検査する装置であって、(a)前記検査対象物の明度に応じた階調を有する多値画像を得る画像入力手段と、(b)前記多値画像を、前記パターンが反復する方向に前記周期の整数倍分ずらした変位多値画像を得る第1の変位手段と、(c)前記多値画像と前記変位多値画像との差を演算して差分多値画像を得る差分演算手段と、(d)前記差分多値画像の絶対値を演算して絶対多値画像を得る絶対値演算手段と、(e)前記絶対多値画像における値を所定の第1の閾値と比較し、その比較結果に応じて2値化することにより、第1の2値画像を得る第1の2値化手段と、(f)前記画像入力手段で得た多値画像におけるエッジ部分を表現するエッジ画像を得るエッジ抽出手段と、(g)前記エッジ画像における値を所定の第2の閾値と比較し、その比較結果に応じて2値化することにより、第2の2値画像を得る第2の2値化手段と、(h)前記第2の2値画像を、前記パターンが反復する方向に前記周期の整数倍分ずらした変位2値画像を得る第2の変位手段と、(i)前記第2の2値画像と前記変位2値画像との論理積を演算し、マスク画像を得る論理積演算手段と、(j)前記マスク画像の反転画像と前記第1の2値画像との論理積を演算し、被マスク画像を得るマスク手段と、(k)前記被マスク画像に基づいて前記検査対象物における欠陥を検出する検出手段と、を備える周期性パターンの検査装置。
IPC (2)：
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