Pat

J-GLOBAL ID：200903095813776878

酸誘導体化合物、高分子化合物、それを用いた感光性樹脂組成物およびパターン形成方法

Inventor： 岩佐 繁之 ,  前田 勝美 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996234228
Publication number (International publication number)：1997221519
Application date： Sep. 04, 1996
Publication date： Aug. 26, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 遠紫外線領域の放射線を光源とするリソグラフィー工程に用いることができ、高い解像性が得られ、また熱安定性も良い感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 一般式(2)で表される高分子化合物と、光によって酸を発生する光酸発生剤とを含有する感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成材料。(上式において、R6、R8、R13は、水素原子またはメチル基、R7、R9は炭素数7〜13の2価の炭化水素基、R10は水素原子または炭素数1〜2の炭化水素基、R11は炭素数1〜2の炭化水素基、R12は炭素数1〜12のアルコキシ基等、R14は水素原子および炭素数1〜10の炭化水素基、x+y+z=1、xは0.1〜0.9、yは0.1〜0.7、zは0〜0.7を表す。)

Claim (excerpt)：

一般式(1)で表されるアクリル酸またはメタクリル酸誘導体化合物。【化1】(上式において、R1 は水素原子あるいはメチル基、R2 は有橋環式炭化水素基を有する炭素数7〜13の2価の炭化水素基、R3 は水素原子または炭素数1〜2の炭化水素基、R4 は炭素数1〜2の炭化水素基、R5 は炭素数1〜12のアルコキシ基あるいは炭素数1〜13のアシル基に置換されたあるいは無置換の炭素数1〜12の炭化水素基を表す。)

IPC (9)：

C08F 20/28 MML ,  C07C 62/38 ,  C07C 69/73 ,  C09D133/14 PFY ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (10)：

C08F 20/28 MML ,  C07C 62/38 ,  C07C 69/73 ,  C09D133/14 PFY ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F