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J-GLOBAL ID：200903095819364628

露光装置

Inventor： 加藤 欣也 ,  加藤 正紀 ,  奈良 圭
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 山口 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994323927
Publication number (International publication number)：1996162401
Application date： Dec. 01, 1994
Publication date： Jun. 21, 1996
Summary：

【要約】【目的】 マスクマークおよびプレートマークをそれぞれ比較的狭い走査範囲で二次元的に同時走査して高精度なアライメントを行うことのできる大型基板一括走査露光型の露光装置を提供すること。【構成】 本発明においては、第1の基板および第2の基板を投影光学系に対して所定方向に相対的に移動させつつ前記第1の基板に形成されたパターンの像を前記投影光学系を介して前記第2の基板上に投影露光する露光装置において、前記投影光学系は、第1の基板に形成されたパターンの等倍正立像を前記第2の基板上に形成するために前記露光走査の方向と直交する方向に沿って配列された複数の投影光学ユニットからなり、前記露光装置は、前記第1の基板上に形成された第1マークおよび前記第2の基板上に形成された第2マークを光走査により検出して、前記第1の基板と前記第2の基板との位置ずれを計測するためのアライメント手段を備えている。

Claim (excerpt)：

第1の基板および第2の基板を投影光学系に対して所定方向に相対的に移動させつつ前記第1の基板に形成されたパターンの像を前記投影光学系を介して前記第2の基板上に投影露光する露光装置において、前記投影光学系は、第1の基板に形成されたパターンの等倍正立像を前記第2の基板上に形成するために前記露光走査の方向と直交する方向に沿って配列された複数の投影光学ユニットからなり、前記露光装置は、前記第1の基板上に形成された第1マークおよび前記第2の基板上に形成された第2マークを光走査により検出して、前記第1の基板と前記第2の基板との位置ずれを計測するためのアライメント手段を備え、前記アライメント手段は、光束を供給する光源手段と、前記光束に基づいて、前記複数の投影光学ユニットのうち特定の投影光学ユニットに対する前記第1の基板上の視野領域に空間的に分離された2つの走査ビームを形成するための走査ビーム形成光学系と、前記第1の基板上に形成された2つの走査ビームをそれぞれ互いに異なる方向に沿って光学的に走査するための走査手段と、前記第1の基板上に形成された2つの走査ビームのうちの一方の走査ビームによる光学的走査によって生成される前記第1マークからの光および前記特定の投影光学ユニットを介して前記第2の基板上に形成された前記一方の走査ビームによる光学的走査によって生成される前記第2マークからの光を検出するための第1検出手段と、前記第1の基板上に形成された2つの走査ビームのうちの他方の走査ビームによる光学的走査によって生成される前記第1マークからの光および前記特定の投影光学ユニットを介して前記第2の基板上に形成された前記他方の走査ビームによる光学的走査によって生成される前記第2マークからの光を検出するための第2検出手段とを備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (2)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 521