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J-GLOBAL ID：200903095882088738

フオトマスクの洗浄装置及びフオトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法

Inventor： 岩井 計夫
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991300435
Publication number (International publication number)：1993134398
Application date： Nov. 15, 1991
Publication date： May. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】フォトマスク表面をブラシでこすることによりパーティクルを除去する際にブラシに付着したパーティクルが、再びフォトマスクの表面に付着しない、フォトマスクの両面スクラブ洗浄装置を提供する。【構成】スクラブ洗浄槽14の上部に、振動板8を貼付けたノズル9が設けてある。超音波発振器7により、振動板8がノズル9内の純水に振動を与え、ノズル9から超音波振動を与えられた純水10がブラシ3に吐出されることにより、フォトマスク1から脱落してノズル3に付着したパーティクルが、容易に除去できる。

Claim (excerpt)：

フォトマスクの表面に付着したパーティクルを除去するために前記フォトマスクの表面をブラシでこするフォトマスクの洗浄装置において、超音波発振器と振動板を有し、超音波振動を与えた水流を前記ブラシに流すことを特徴とするフォトマスクの洗浄装置。

IPC (6)：

G03F 1/08 ,  B08B 1/00 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12 ,  B44C 1/22 ,  H01L 21/304 341