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J-GLOBAL ID：200903095895152532

レジスト組成物

Inventor： 秋田 誠 ,  藤島 浩晃 ,  上谷 保則
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002023212
Publication number (International publication number)：2003222999
Application date： Jan. 31, 2002
Publication date： Aug. 08, 2003
Summary：

【要約】【課題】エキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、ドライエッチング耐性に優れたポジ型化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(Ia)で表される重合単位及び(Ib)で表される重合単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合単位と下式(II)から選ばれるエポキシ基を有する重合単位とを含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。・・・・・(Ia)・・・・・(Ib)(R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、nは1〜3の整数を表す。)・・・・・(II)(R6、R7は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。mは、1〜8の整数を表す。)

Claim (excerpt)：

下式(Ia)で表される重合単位及び(Ib)で表される重合単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合単位と下式(II)から選ばれるエポキシ基を有する重合単位とを含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含むことを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。・・・・・(Ia)・・・・・(Ib)(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、nは1〜3の整数を表す。R2が複数のとき、互いに同一でも異なっていてもよく、R4が複数のとき、互いに同一でも異なっていてもよい。)・・・・・(II)(式中、R6、R7は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。mは、1〜8の整数を表す。)

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  C08F220/32 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  C08F220/32 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (32)：

2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08S ,  4J100AL10Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11S ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53S ,  4J100BC54Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA28 ,  4J100DA38 ,  4J100JA38