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J-GLOBAL ID:200903095901887027

カーボン被膜の形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高畑 正也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993027232
Publication number (International publication number):1994220638
Application date: Jan. 22, 1993
Publication date: Aug. 09, 1994
Summary:
【要約】【目的】 各種基材に対して全表面もしくは一部表面に低温CVD法により密着性に優れるカーボン被膜を効率よく形成することができるカーボン被膜の形成方法を提供する。【構成】 基材面の全部もしくは一部に硝酸ニッケル水溶液を塗布したのち、加熱処理して酸化ニッケルに転化させる。ついで、炭化水素ガスを熱分解するCVD法により基材の酸化ニッケル担持面にカーボン被覆層を気相析出させる。
Claim (excerpt):
基材面の全部もしくは一部にニッケル塩溶液を塗布したのち加熱処理して酸化ニッケルに転化させ、ついで炭化水素ガスの熱分解によるCVDを介して前記基材の酸化ニッケル担持面にカーボン被覆層を気相析出させることを特徴とするカーボン被膜の形成方法。
IPC (3):
C23C 16/26 ,  C23C 16/02 ,  C23C 16/44

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