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J-GLOBAL ID:200903095914560183

欠陥を有する電気機械画素の効果を軽減する方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993265039
Publication number (International publication number):1994258586
Application date: Oct. 22, 1993
Publication date: Sep. 16, 1994
Summary:
【要約】【目的】 欠陥を有する電気機械画素の効果を、その画素を完全に消失させる、または、非反射状態にするなどにより、軽減する方法を提供する。【構成】 本発明の方法は過大な機械的応力、過大な熱的応力、電気化学的反応、または、熱的に誘起された化学反応により、前記電気機械画素のヒンジまたはビームに、損傷を与えるのに十分な電圧を加え、これらのヒンジまたはビームに損傷を与える段階を有する。
Claim (excerpt):
光を観察者の視野に送り、かつ、ビームおよびヒンジを備えた、欠陥を有する明るい電気機械画素の光を軽減する方法であって、前記電気機械画素に損傷を与えるのに十分な電圧を加えて前記画素が光を前記視野にもはや送らないようにする段階を有する、前記方法。

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