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J-GLOBAL ID：200903095920771870

シリコンウエーハの保管方法

Inventor： 鈴木 邦由 ,  高久 敏明
Applicant, Patent owner： 信越半導体株式会社
Agent (1)： 舘野 公一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994079601
Publication number (International publication number)：1995263403
Application date： Mar. 25, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 鏡面研磨ウエーハを製造する工程で仕掛かっているシリコンウエーハを、その表面に汚れが発生することなく保管できる方法を提供する。【構成】 シリコンウエーハを、好ましくは過酸化水素濃度0.05wt%〜1wt%、温度10°C〜30°Cの過酸化水素水中に浸漬して保管する。【効果】 保管時間を120時間としても、ウエーハ表面に汚れが発生しなくなる。

Claim (excerpt)：

酸、アルカリ等の薬液による処理後のシリコンウエーハを直ちに、あるいは水洗した後直ちに、過酸化水素水中に浸漬することを特徴とするシリコンウエーハの保管方法。

IPC (3)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68