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J-GLOBAL ID：200903095922744080

フルオロ飽和炭化水素基含有化合物、その製造方法、及び表面処理剤及び塗料添加剤

Inventor：
沢田 英夫

About 沢田 英夫

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種谷 利幸

About 種谷 利幸

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滝下 勝久

About 滝下 勝久


Applicant, Patent owner：
石原薬品株式会社

About 石原薬品株式会社

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昭和電工株式会社

About 昭和電工株式会社


Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999065659
Publication number (International publication number)：2000256302
Application date： Mar. 11, 1999
Publication date： Sep. 19, 2000
Summary：
【要約】【課題】 基材表面等に低表面張力性、低屈折性、低反射性、耐熱性、耐寒性、耐油性、電気絶縁性、防曇性、防汚性、耐薬品性等の有用な性質を付与しうる新規フッ素系化合物を提供する。【解決手段】 この新規化合物は式【化1】[式中、RfはOが介在してもよく、Clで置換されてもよいフルオロ飽和炭化水素基、A-ZはZ置換ビニル系モノマー単位〔Zは-CO2R1及び-CONR2R3(R1、R2はブロック化されてもよいイソシアネート基含有炭化水素基、R3はH、炭化水素基、ブロック化されてもよいイソシアネート基含有炭化水素基を示し、場合によりこれらイソシアネート基含有炭化水素基はウレタン結合、O又はNが介在してもよい)〕、Bは置換されていてもよいビニル系モノマー単位、nは1〜5000、mは0〜5000である]で表わされ、RfC(=O)OO(O=)CRfの過酸化フルオロアルカノイル、Z置換ビニル系モノマー及び置換されていてもよいビニル系モノマーを反応させて得られ、表面処理剤や塗料添加剤として有用である。
Claim (excerpt)：
一般式【化1】[式中、Rfは酸素原子が介在していてもよく、塩素原子で置換されていてもよいフルオロ飽和炭化水素基を、A-ZはZ置換ビニル系モノマー単位〔ここで、Zは-CO2R1及び-CONR2R3(ここで、R1及びR2は同一であるかあるいは互いに異なる、ブロック化されていてもよいイソシアネート基含有炭化水素基を、R3は水素原子、炭化水素基、又はR1又はR2と同一であるかあるいは互いに異なる、ブロック化されていてもよいイソシアネート基含有炭化水素基をそれぞれ示し、場合によりこれらイソシアネート基含有炭化水素基はウレタン結合、酸素原子又は窒素原子が介在していてもよい)の中から選ばれた少なくとも1種の基を示す〕を、Bは置換されていてもよいビニル系モノマー単位を、nは1〜5000を、mは0〜5000をそれぞれ示す]で表わされるフルオロ飽和炭化水素基含有化合物。
IPC (8)：
C07C271/60 ,  C07C269/06 ,  C07D223/10 ,  C08F220/36 ,  C08F220/60 ,  C08G 18/73 ,  C09D 7/12 ,  C09K 3/18 103
FI (8)：
C07C271/60 ,  C07C269/06 ,  C07D223/10 ,  C08F220/36 ,  C08F220/60 ,  C08G 18/73 Z ,  C09D 7/12 ,  C09K 3/18 103
F-Term (58)：
4C034DE03 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB68 ,  4H006AC53 ,  4H006AC56 ,  4H006AC59 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BV22 ,  4H006BW13 ,  4H006FE71 ,  4H006FE74 ,  4H006RA14 ,  4H006RB26 ,  4H020BA13 ,  4J034HA02 ,  4J034HA06 ,  4J034HD12 ,  4J034RA07 ,  4J038CG172 ,  4J038CQ002 ,  4J038EA011 ,  4J038GA11 ,  4J038GA12 ,  4J100AB04Q ,  4J100AB07Q ,  4J100AC03Q ,  4J100AC04Q ,  4J100AC23Q ,  4J100AC24Q ,  4J100AC37Q ,  4J100AG02Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AG05Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM02Q ,  4J100AM15Q ,  4J100AQ06Q ,  4J100AQ12Q ,  4J100AQ26Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA27Q ,  4J100BA29Q ,  4J100BA31Q ,  4J100BA38P ,  4J100BA42P ,  4J100BA46P ,  4J100BA72Q ,  4J100BA77Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100FA03 ,  4J100JA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 日本化学会第76春季年会-講演予稿集I, 19990315, p.427(3G303)
  • 日本化学会第76春季年会-講演予稿集I, 19990315, p.427(3G303)
  • 日本化学会第76春季年会-講演予稿集I, 19990315, p.297(3F244)
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