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J-GLOBAL ID：200903095924447610

低硬度導電性ロールの製法およびそれにより得られた低硬度導電性ロール

Inventor： 吉川 均 ,  有村 昭二 ,  加地 明彦 ,  大鍬 憲一
Applicant, Patent owner： 東海ゴム工業株式会社
Agent (1)： 西藤 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998317761
Publication number (International publication number)：1999267583
Application date： Nov. 11, 1997
Publication date： Oct. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】トナーフィルミングを生じず、しかも耐久性に優れる低硬度導電性ロールの製法およびそれにより得られた低硬度導電性ロールを提供する。【解決手段】本発明の低硬度導電性ロール18の製法は、軸体を有するロール基体16を準備するとともに,NCO/活性水素比が,当量比で,NCO/活性水素=2.5〜35の範囲となるよう下記の(a)および(b)成分を配合した表面層17形成用溶液を準備する工程と、上記ロール基体16の外周に上記表面層17形成用溶液を塗工する工程と、上記表面層17形成用溶液を塗工したロール基体16を加熱処理することにより,ロール基体16の外周に表面層17を形成するとともに,上記(b)成分のブロックを外しそのイソシアネート基と上記(a)成分の水酸基またはアミノ基を反応させて上記(a)成分を(b)成分により架橋する工程とを備えるという構成である。(a)水酸基またはアミノ基を有する溶剤可溶性ポリマー。(b)ブロックイソシアネート。

Claim (excerpt)：

軸体を有するロール基体を準備するとともに,NCO/活性水素比が,当量比で,NCO/活性水素=2.5〜35の範囲となるよう下記の(a)および(b)成分を配合した表面層形成用溶液を準備する工程と、上記ロール基体の外周に上記表面層形成用溶液を塗工する工程と、上記表面層形成用溶液を塗工したロール基体を加熱処理することにより,ロール基体の外周に表面層を形成するとともに,上記(b)成分のブロックを外しそのイソシアネート基と上記(a)成分の水酸基またはアミノ基を反応させて上記(a)成分を(b)成分により架橋する工程とを備えることを特徴とする低硬度導電性ロールの製法。(a)水酸基またはアミノ基を有する溶剤可溶性ポリマー。(b)ブロックイソシアネート。

IPC (7)：

B05D 7/00 ,  B05D 5/12 ,  B05D 7/24 302 ,  F16C 13/00 ,  G03G 15/02 101 ,  G03G 15/08 501 ,  G03G 15/16

FI (7)：

B05D 7/00 K ,  B05D 5/12 B ,  B05D 7/24 302 T ,  F16C 13/00 E ,  G03G 15/02 101 ,  G03G 15/08 501 D ,  G03G 15/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ロール用組成物及びロール
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-030246   Applicant：出光石油化学株式会社
• 導電性樹脂
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-092241   Applicant：三洋化成工業株式会社
• 画像形成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-291202   Applicant：キヤノン株式会社