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J-GLOBAL ID：200903095935536452

超微細気泡発生装置

Inventor：
氷室 昭三

About 氷室 昭三

, 
石橋 和生

About 石橋 和生


Applicant, Patent owner：
氷室 昭三

About 氷室 昭三

, 
株式会社西日本流体技研

About 株式会社西日本流体技研


Agent (1)： 原崎 正
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004092474
Publication number (International publication number)：2005270935
Application date： Mar. 26, 2004
Publication date： Oct. 06, 2005
Summary：
【課題】 超微細気泡を含む液体の混合流体を簡潔な構造で効率よく生成することのできる超微細気泡発生装置を提供することにある。【解決手段】 超微細気泡(b)を含む液体(a)の混合流体を発生させるための装置であって、吸入部の前方が円錐状に内径が小さくなる構造で、この円錐状のテーパー管の傾斜側周面部分に液体(a)を取り込む液体導入口(7)を備え、テーパー管の先端部分から気体(c)を取り込む細管の気体導入口(8)を備えた。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
超微細気泡を含む液体の混合流体を発生させるための装置であって、吸入部の前方が円錐状に内径が小さくなる構造で、この円錐状のテーパー管の傾斜側周面部分に液体を取り込む液体導入口を備え、テーパー管の先端部分から気体を取り込む細管の気体導入口を備え、テーパー管内部に該テーパー管の内径が大きくなる後方に向けて流速を生じさせ、テーパー管内部に発生した負圧領域で気液混合してテーパー管の下流側に排出し、テーパー管の下流側の正圧領域の液体の圧力を利用して超微細気泡を生成することを特徴とする超微細気泡発生装置。
IPC (3)：
C02F3/20 ,  B01F3/04 ,  B01F5/04
FI (3)：
C02F3/20 Z ,  B01F3/04 A ,  B01F5/04
F-Term (6)：
4D029AA00 ,  4D029AB00 ,  4D029BB10 ,  4D029CC03 ,  4G035AC23 ,  4G035AE13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (4)
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