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J-GLOBAL ID:200903095947514055

光学薄膜及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 奈良 武
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994271992
Publication number (International publication number):1996136701
Application date: Nov. 07, 1994
Publication date: May. 31, 1996
Summary:
【要約】【目的】 充分な光学特性を有する光学薄膜をスパッタリング法により形成させる。【構成】 フッ化アルミニウムとシリコンとの混合物で構成したターゲットを用い、少なくとも酸素原子を含む気体を導入してスパッタリングすることにより成膜し、膜の層を少なくとも1層または複数層に形成する。本発明による光学薄膜は図1の単層膜の例に示すとおり、可視域波長400〜700nmにおいて2%以下の反射率となり充分な光学特性を有する膜を構成している。
Claim (excerpt):
フッ化アルミニウムとシリコンとの混合物で構成したターゲットを用い、少なくとも酸素原子を含む気体を導入してスパッタリングすることにより成膜することを特徴とする光学薄膜及びその製造方法。
IPC (2):
G02B 1/10 ,  C30B 25/06

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