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J-GLOBAL ID：200903095978013658
レーザアブレーション装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
本庄 武男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994124943
Publication number (International publication number)：1995335551
Application date： Jun. 07, 1994
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：
【要約】【目的】 試料基板上に,常に良質な薄膜を形成することができるレーザアブレーション装置。【構成】 本装置A1,A2は,反応ガスが供給された真空槽5内に配置されたターゲット7にレーザ2を照射することにより,ターゲット7から反応物質14を放出させ,この反応物質14を真空槽5内でターゲット7に対向配置された試料基板8に付着させるに際し,円形コイル15等よりなる磁場形成機構により,ターゲット7から試料基板8に向かう発散磁場を形成する。上記構成により,常に良質な薄膜が得られる。
Claim (excerpt)：
反応ガスが供給された真空槽内に配置されたターゲットにレーザ光を照射することにより,該ターゲットから反応物質を放出させ,上記放出させられた反応物質を上記真空槽内でターゲットに対向配置された試料基板に付着させるレーザアブレーション装置において,上記ターゲットから試料基板に向かう発散磁場を形成する磁場形成機構を具備してなることを特徴とするレーザアブレーション装置。
IPC (3)：
H01L 21/203
, C23C 14/46
, H01L 21/268
