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J-GLOBAL ID：200903096000510648
エッチング法、並びに色選別機構及びその作製方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山本 孝久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994013937
Publication number (International publication number)：1995126870
Application date： Jan. 12, 1994
Publication date： May. 16, 1995
Summary：
【要約】【目的】煩雑な製造工程を要さず、しかも広範囲の仕様の色選別機構を作製するのに適したエッチング法を提供する。【構成】エッチング法は、(イ)被エッチング材料10の表面10A上にエッチングレジスト層20を形成し、併せて、裏面10B上に保護層12を形成し、(ロ)エッチングレジスト層20をパターニングして第1の開口部22を設け、且つその近傍にこれより小さな第2の開口部24を設け、(ハ)被エッチング材料をエッチングして、第1の開口部22の下方に貫通領域32を形成し、同時に、第2の開口部24の下方に凹部34を形成し、併せて、貫通領域32と凹部34を隔てる被エッチング材料の少なくとも一部分10Cを除去する工程から成り、以って、表面10A側に大きな開口領域を有する、貫通領域32及び凹部34から構成された電子ビームが通過する貫通部30を形成する。
Claim (excerpt)：
(イ)被エッチング材料の表面上にエッチングレジスト層を形成し、併せて、被エッチング材料の裏面上に保護層を形成する工程と、(ロ)エッチングレジスト層をパターニングして、被エッチング材料における貫通部形成予定領域上のエッチングレジスト層に第1の開口部を設け、該第1の開口部の近傍のエッチングレジスト層に第1の開口部より小さな第2の開口部を設ける工程と、(ハ)被エッチング材料をエッチングして、エッチングレジスト層に設けられた第1の開口部の下方の被エッチング材料に貫通領域を形成し、同時に、第2の開口部の下方の被エッチング材料に凹部を形成し、併せて、貫通領域と凹部を隔てる被エッチング材料の少なくとも一部分を除去する工程、から成り、以って、貫通領域及び凹部から構成され、しかも、被エッチング材料の表面側における貫通領域及び凹部によって規定された開口領域、並びに被エッチング材料の裏面側における貫通領域によって規定された開口領域を有する貫通部を形成することを特徴とするエッチング法。
IPC (3)：
C23F 1/00
, H01J 9/14
, H01J 29/07
