ホスファゼン変性フェノール樹脂、難燃剤、難燃性樹脂組成物及び難燃性樹脂成形体

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三枝英二 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002157855
Publication number (International publication number)：2003342339
Application date： May. 30, 2002
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】本発明は、合成樹脂用難燃剤として有用な新規フェノール樹脂を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、一般式【化1】[式中、Rは、C1-15アルキル基等を示す。R1は、水素原子又は水酸基を示す。Aは、基-CHR2-等を示す。ここで、R2は水素原子、C1-6アルキル基等を示す。Xは、酸素原子又は硫黄原子を示す。Y1は、基-N=P(XR)3又は基-N=P(X)XRを示し、Y2は、基-P(XR)4又は基-P(X)(XR)2を示す。また、Y1及びY2は、互いに結合して環を形成してもよい。n及びmは、それぞれ0〜9999の整数を示す。但し、2≦m+n≦9999である。]で表される基を構成単位として含有するホスファゼン変性フェノール樹脂である。

Claim (excerpt)：

一般式【化1】[式中、Rは、C1-15アルキル基、C3-15シクロアルキル基、C2-15アルケニル基、C6-20アリール基又はフェノール樹脂残基を示す。R1は、水素原子又は水酸基を示す。Aは、基-CHR2-又は基-(CH2O)a-CH2-を示す。ここで、R2は水素原子、C1-6アルキル基、C2-4アルケニル基、C3-6シクロアルキル基又は置換基としてC1-6アルキル基、C3-6シクロアルキル基もしくはヒドロキシ基を有することのあるフェニル基を示す。aは1〜5の整数を示す。Xは、酸素原子又は硫黄原子を示す。Y1は、基-N=P(XR)3又は基-N=P(X)XRを示し、Y2は、基-P(XR)4又は基-P(X)(XR)2を示す。また、Y1及びY2は、互いに結合して環を形成してもよい。n及びmは、それぞれ0〜9999の整数を示す。但し、2≦m+n≦9999である。]で表される基を構成単位として含有するホスファゼン変性フェノール樹脂。

IPC (7)：

C08G 8/28 , C08G 14/12 , C08L 61/00 , C08L101/00 , C09K 21/10 , C09K 21/12 , C09K 21/14

FI (7)：

C08G 8/28 B , C08G 14/12 , C08L 61/00 , C08L101/00 , C09K 21/10 , C09K 21/12 , C09K 21/14

F-Term (38)：

4H028AA23 , 4H028AA24 , 4H028AA29 , 4H028AA30 , 4H028AA31 , 4H028AA36 , 4H028AA38 , 4H028AA40 , 4H028AA44 , 4H028AA48 , 4H028BA06 , 4J002AA00W , 4J002AA01W , 4J002AA02W , 4J002BN15W , 4J002CC03W , 4J002CC07X , 4J002CC18W , 4J002CD00W , 4J002CF00W , 4J002CG00W , 4J002CH07W , 4J002CK02W , 4J002CL00W , 4J002CM04W , 4J002FD13X , 4J002GQ00 , 4J033CA01 , 4J033CA11 , 4J033CA25 , 4J033CA44 , 4J033FA01 , 4J033FA06 , 4J033FA11 , 4J033HA02 , 4J033HA28 , 4J033HB00 , 4J033HB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特公昭49-004080
難燃性エポキシ樹脂組成物、及びその成形物、及び電子部品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-331189 Applicant：大塚化学株式会社

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