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J-GLOBAL ID：200903096035623550

プラズマ処理装置

Inventor： 徳村 勝也
Applicant, Patent owner： 坂本 富士夫
Agent (1)： 加藤 雄二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001296382
Publication number (International publication number)：2003109799
Application date： Sep. 27, 2001
Publication date： Apr. 11, 2003
Summary：

【要約】【解決手段】 外部誘電体1は絶縁体の筒からなり、外部電極2は、外部誘電体1の外周面に密着した導体からなる。内部誘電体3は、外部誘電体1の内部に同心円状に配置される絶縁体の筒からなり、内部電極4は、内部誘電体3の内周面に密着した導体からなる。ガス供給口7は、外部誘電体1と内部誘電体3との間にガスを供給し、交流電源5は、外部電極2と内部電極4との間に接続される。交流電源5によって外部誘電体1と内部誘電体3との間にプラズマが生成される。外部誘電体1にはプラズマを外部に噴出させるためのプラズマ噴出口6を備える。【効果】 外部誘電体1と内部誘電体3とを筒状体によって、長尺化することによって、大面積の基板を移動させながら改質処理等ができる。

Claim (excerpt)：

絶縁体の筒からなる外部誘電体と、この外部誘電体の外周面に密着した導体からなる外部電極と、前記外部誘電体の内部に同軸的に配置される絶縁体の筒からなる内部誘電体と、この内部誘電体の内周面に密着した導体からなる内部電極と、前記外部誘電体と前記内部誘電体との間にガスを供給するガス供給口と、前記外部電極と前記内部電極との間に接続される交流電源とからなり、前記外部誘電体は、前記交流電源によって前記外部誘電体と前記内部誘電体との間に生成されたプラズマを前記外部誘電体の外部に噴出させるプラズマ噴出口を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

H05H 1/46 M ,  H01L 21/304 645 C ,  H01L 21/302 N

F-Term (7)：

5F004AA14 ,  5F004BA11 ,  5F004CA02 ,  5F004DA23 ,  5F004DA24 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26