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J-GLOBAL ID：200903096073039480

処理室

Inventor： 藤井 彦重
Applicant, Patent owner： 有限会社エイチケイエムカンパニー
Agent (1)： 宮崎 伊章
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996325972
Publication number (International publication number)：1998156577
Application date： Nov. 20, 1996
Publication date： Jun. 16, 1998
Summary：

【要約】【課題】 空気の存在下において影響を受けやすい材料の保管、製造を空気の影響をうけることなく簡単に、かつ安全に行うことができ、また、粉塵を大量に発生する作業、及び粉塵の存在下で行うことが好ましくない作業の作業効率を向上させることができる処理室を提供する。【解決手段】 密閉された空間内にヘリウムガスを流入するための流入口2と、ヘリウムガスの流入に伴って上記空間内の上方から空気と置換して下方において該空気を排出可能な排気口1を有し、上記空間内にヘリウムガスの雰囲気の処理空間を備えている。

Claim (excerpt)：

ヘリウムガスの雰囲気の処理空間を備えた処理室。

IPC (7)：

B23K 31/02 310 ,  B05C 15/00 ,  B21B 9/00 ,  B22D 23/00 ,  B23K 9/16 ,  B24B 1/00 ,  E04H 5/02

FI (7)：

B23K 31/02 310 B ,  B05C 15/00 ,  B21B 9/00 Z ,  B22D 23/00 B ,  B23K 9/16 M ,  B24B 1/00 Z ,  E04H 5/02 B