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J-GLOBAL ID：200903096081852548

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法

Inventor：
田中 庸司

About 田中 庸司

, 
千葉 達男

About 千葉 達男


Applicant, Patent owner：
日立化成工業株式会社

About 日立化成工業株式会社


Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999287645
Publication number (International publication number)：2000347391
Application date： Oct. 08, 1999
Publication date： Dec. 15, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 膜伸度、膜強度、及び保存安定性が優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、プリント配線の高密度化及び作業性が極めて優れたレジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンを有するプリント配線板の製造法を提供する。【解決手段】 (A)分散度が2.0〜3.0のバインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、(C)光重合開始剤及び(D)下記一般式(I)で表される化合物を含有してなる感光性樹脂組成物、この組成物を支持体上に積層してなる感光性エレメント、このエレメントを、回路形成用基板上に感光性樹脂組成物層が密着するようにして積層し、光硬化させ、未露光部を現像により除去するレジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンの製造された回路形成用基板をエッチング又はめっきするプリント配線板の製造法。
Claim (excerpt)：
(A)分散度が2.0〜3.0のバインダーポリマー、(B)分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、(C)光重合開始剤及び(D)一般式(I)【化1】(式中、Zはハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、アミノ基、炭素数1〜20のアルキルアミノ基、炭素数2〜20のジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、炭素数1〜10のアルキルメルカプト基、アリル基、水酸基、炭素数1〜20のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アルキル基の炭素数が1〜10のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が1〜10のアシル基、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環を含む基を示し、R1は炭素数1〜10のアルキレン基を示し、R2及びR3は各々独立して炭素数1〜12のアルキル基又は炭素原子数1〜12のヒドロキシアルキル基を示し、nは0〜4の整数である)で表される化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。
IPC (8)：
G03F 7/004 501 ,  C08F 2/48 ,  C08F 20/02 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18
FI (8)：
G03F 7/004 501 ,  C08F 2/48 ,  C08F 20/02 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/032 ,  H05K 3/06 H ,  H05K 3/18 D
F-Term (80)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AB11 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC31 ,  2H025BC43 ,  2H025BC51 ,  2H025BC74 ,  2H025CA27 ,  2H025CA28 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA40 ,  2H025FA43 ,  4J011QA03 ,  4J011QA13 ,  4J011QA15 ,  4J011QA22 ,  4J011QA23 ,  4J011QA24 ,  4J011QB16 ,  4J011QB20 ,  4J011QB24 ,  4J011RA03 ,  4J011RA17 ,  4J011SA05 ,  4J011SA21 ,  4J011SA41 ,  4J011SA63 ,  4J011SA78 ,  4J011TA04 ,  4J011TA10 ,  4J011UA01 ,  4J011UA06 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J100AJ02P ,  4J100AL02P ,  4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL05P ,  4J100AL08P ,  4J100AL62P ,  4J100AL63P ,  4J100AL66P ,  4J100AL67P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA08P ,  4J100BA15P ,  4J100BB01P ,  4J100BC43P ,  4J100BC45P ,  4J100CA01 ,  4J100JA38 ,  5E339CC01 ,  5E339CC10 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CE16 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD02 ,  5E343AA02 ,  5E343AA11 ,  5E343BB21 ,  5E343CC43 ,  5E343CC62 ,  5E343DD33 ,  5E343DD43 ,  5E343ER16 ,  5E343ER18 ,  5E343GG20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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