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J-GLOBAL ID：200903096086071242

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 東 広和 ,  中村 昌洋 ,  河田 正司
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996327631
Publication number (International publication number)：1998153857
Application date： Nov. 22, 1996
Publication date： Jun. 09, 1998
Summary：

【要約】【課題】 i線露光に適したレジスト特性のバランスに優れたポジ型フォトレジストを提供する。【解決手段】 (A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)フェノール類とアルデヒド類またはケトン類との重縮合物の1,2-ナフトキノンジアジド-6-スルホン酸エステル系感光剤を含有するポジ型レジスト組成物であって、テトラヒドロフランを溶媒としたUV254nmの検出器を用いたゲルパーミエション・クロマトグラフィーにより得られたパターンにおける当該重縮合物のポリスチレン換算重量平均分子量が3000〜12,000であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)下記一般式(1)で表されるフェノール類とアルデヒド類またはケトン類との重縮合物の1,2-ナフトキノンジアジド-6-スルホン酸エステル系感光剤を含有するポジ型レジスト組成物であって、テトラヒドロフランを溶媒としたUV254nmの検出器を用いたゲルパーミエション・クロマトグラフィーにより得られたパターンにおける当該重縮合物のポリスチレン換算重量平均分子量が3,000〜12,000であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式(1)中、R1〜R3は、水素原子、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基を示す。)

IPC (3)：

G03F 7/023 501 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/023 501 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R